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南大光电:公司目前研发和产业化的ArF光刻胶,可广泛应用于各种高端IC芯片的生产制造

时间:2023-05-06 16:30:46

来源:CBC金属网

2023年5月6日讯:向南大光电公司表示,公司目前研发和产业化的ArF光刻胶,是先进集成电路芯片制造的关键材料,可以广泛应用于90nm~28nm技术节点的各种高端IC芯片的生产制造。

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